萊伯泰科精彩亮相“2023光刻膠及聚酰亞胺先進(jìn)技術(shù)和產(chǎn)業(yè)應(yīng)用研討會”

發(fā)布時間：2023-05-31 15:01

2023年5月26日，萊伯泰科受電子化工新材料產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟的邀請，出席江蘇常州“2023光刻膠及聚酰亞胺先進(jìn)技術(shù)和產(chǎn)業(yè)應(yīng)用研討會”，大會上萊伯泰科帶來半導(dǎo)體領(lǐng)域解決方案，并與行業(yè)內(nèi)各位專家進(jìn)行熱切討論。

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光刻是半導(dǎo)體制造微圖形工藝的核心，光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的 35%。目前國內(nèi)光刻膠產(chǎn)業(yè)仍處于發(fā)展起步階段，高端半導(dǎo)體光刻膠市場仍被日本和美國公司壟斷，國產(chǎn)替代率較低。

2021年5月20日，萊伯泰科重磅發(fā)布LabMS 3000電感耦合等離子體質(zhì)譜儀，強(qiáng)勢進(jìn)軍半導(dǎo)體行業(yè)。2023年3月10日，萊伯泰科隆重推出針對于半導(dǎo)體行業(yè)研發(fā)生產(chǎn)的LabMS 5000 ICP-MS/MS電感耦合等離子體質(zhì)譜，致力于為半導(dǎo)體行業(yè)用戶提供更加精準(zhǔn)、高效的解決方案。

電感耦合等離子體質(zhì)譜儀LabMS 3000 ICP-MS

LabMS 5000 電感耦合等離子體串聯(lián)質(zhì)譜儀（ICP-MS/MS)

萊伯泰科作為主要國產(chǎn)儀器廠商之一，在分析儀器領(lǐng)域已深耕20年，始終堅守在推動我國科學(xué)儀器發(fā)展的前線。近些年萊伯泰科在質(zhì)譜創(chuàng)新之路的進(jìn)展加速著國產(chǎn)替代的進(jìn)程，以實(shí)際行動助力我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)健康穩(wěn)步發(fā)展，實(shí)現(xiàn)高水平科技自立自強(qiáng)。